Компания резидент ОЭЗ Технополис Москва создала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Об этом сообщил мэр Москвы Сергей Собянин в своем телеграм-канале. В мире меньше 10 стран способны производить это ключевое оборудование для микросхем, и теперь Россия в их числе. Это важный шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и технологической независимости.

Российский фотолитограф был создан при партнерстве с белорусским заводом, который имеет большой опыт в этой области. Отечественная установка отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения используется твердотельный лазер, который является мощным и энергоэффективным, обладает высокой долговечностью и более узким спектром.

У отечественного фотолитографа уже есть заказчик, и технологические процессы адаптируются к особенностям производства конечного потребителя. В настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров, и планируется его завершение к 2026 году. Это значительный прогресс в развитии отечественной микроэлектроники и технологической независимости страны.